2015年12月11日，武汉光谷创元电子有限公司“离子注入法生产两层型挠性覆铜板的技术及应用”科技成果鉴定会在武汉圆满召开。此次鉴定会由湖北省科技厅组织，特邀中科院院士担任主任委员，鉴定委员会系由资深研究员、教授及业界权威人士共7人组成。

与会专家认真听取了公司的项目报告，审阅了鉴定材料，经过质询和讨论后，专家组对创元技术的先进性、连续化生产装置的创造性及产品的优异性给予了充分肯定，一致认为该技术达到国际先进水平。